採用尖端的製造業製程技術打造
採用最先進的製程技術,為 AI、HPC 與新一代運算最佳化,由具韌性的全球供應鏈製造。
Intel 14A
跨世代進步
- 搭載 RibbonFET 2 環繞式閘極電晶體與 PowerDirect 晶背供電,實現劃時代效率與效能。
- 相較於 Intel 18A,相同功耗效能提升 15–20%,或相同效能功耗降低 25–35%,且晶片密度最高提升 30%。1
- Turbo Cells 加速 CPU/GPU 效能,讓設計師能針對目標應用,微調區塊級功耗與效能權衡。
Intel 18A
創新技術領先業界
- 推出業界首創的 RibbonFET 環繞式閘極電晶體與 PowerVia 晶背供電組合。
- 相較於 Intel 3,相同功耗效能最高提升 18%,相同效能功耗降低 38%,且晶片密度提升 30%。2
- PowerVia 可提升標準元件利用率並降低壓降,進而強化供電能力與效能效率。
- RibbonFET 可改善靜電控制、提高每瓦效能,並支援更低的 Vmin 運作。
- 完整的生態系統支援與設計實現,讓您為設計準備就緒。
- Intel 18A 節點家族還包括 Intel 18A-P,不僅每瓦效能最高提升 9%、電源效率更高3,還提供專為先進 3DIC 整合打造的 Intel 18A-PT。
Intel 3
我們極致的 FinFET 節點
- 運用 EUV 與增強後的元件庫,提升驅動電流與互連效率。
- 相較於 Intel 4,相同功耗效能提升 18%,晶片密度最高提升 8%。4
- 一般運算應用的理想選擇,兼顧效能與效率。
- 這個家族包括 I/O 與類比功能更豐富的 Intel 3-E,以及提供直通式 TSV 實現高密度堆疊的 Intel 3-T。
- 已量產,目前僅以設計服務節點方式提供。
Intel 與 聯華電子 12 奈米製程節點
協作創新
- 與聯華電子共同開發,結合 Intel 的 FinFET 專才與聯華電子的邏輯與 RF 經驗。
- 相較於聯華電子的 14 奈米技術(14FFC),使用最佳化的 FinFET 裝置,效能提升 10%,而電壓降低後則可減少 20% 的功耗。
- 專為行動通訊、無線與網路市場最佳化。
- 提供多元且具韌性的供應鏈替代方案,支援高成長應用。
Intel 16
兼具 FinFET 優勢與平面電晶體的靈活性
- 光罩用量更少,後端設計規則簡化,提供 16 奈米級效能。
- 非常適合儲存裝置、RF、mmWave 與消費性應用。
- 在廣泛的通道長度範圍內,短通道行為皆獲得改善。
- 在愛爾蘭 Intel Foundry Fab 24 量產。
業界領導者信任 Intel Foundry
Intel 18A 產品現已上市,節點組合也愈來愈豐富,Intel Foundry 效能與效率領先,深受客戶青睞。
我們宣佈計劃將 Intel Foundry 作為子公司,為客戶提供更完善的保障和更清晰的業務分離。
進一步瞭解製程技術
Intel Foundry 入口網站
產品與效能資訊
1
根據截至 2025 年 4 月的 Intel 內部分析,比較 Intel 14A 與 Intel 18A。結果可能會有所差異。
2
K. Fischer 等人,《採用 RibbonFET (GAA) 與 PowerVia,適用於進階高效能運算的 Intel 18A 平台技術》,IEEE/JSAP Symposium on VLSI Technology and Circuits,2025 年 6 月。
3
A. Bowonder 等人,《採用高階 RibbonFET (GAA) 電晶體與 PowerVia,適用於高效能運算的 Intel 18A-P CMOS 技術強化》,IEEE/JSAP Symposium on VLSI Technology and Circuits,2026 年 6 月。
4
適用於高效能運算與 SoC 產品應用的 Intel 3 進階 FinFET 平台技術亮相 2024 VLSI 研討會。